СТЕНД – ЭМП НА ОСНОВЕ ЭЛЕКТРОМАГНИТНОЙ УСТАНОВКИ
Разработан лабораторный стенд для производства управляемого силового воздействия посредством переменного электромагнитного поля частотой от 169 до 400 Гц на рекомбинированную пробу при давлениях до 400 атм и температурой до 120 градусов. Состав оборудования: камера – оболочка, станция управления СУ ЧРП 100 КВа, обвязка с запорной арматурой и КИП и А, кабель, основание установки для воздействия, система нагрева камеры – оболочки.